[发明专利]光掩模基板及制造方法、光掩模制造方法和图案转印方法

摘要

本发明涉及光掩模基板及其制造方法、光掩模制造方法和图案转印方法，即使是精细化的转印用图案，也能够忠实于图案设计值高精度地进行转印。该光掩模基板用于成为光掩模，该光掩模在主表面形成转印用图案，通过安装于接近式曝光装置，与曝光装置的载置台所载置的被转印体之间设置接近间隙地被曝光来进行转印，该光掩模基板通过在主表面上的1个或者多个特定区域进行除去量与特定区域外的周边区域不同的形状加工，形成凹形状、凸形状或者凹凸形状，来降低将光掩模基板安装到曝光装置时产生的接近间隙的基于位置的变动，并且形状加工使从接近间隙的基于位置的变动中提取出的曝光装置所固有的变动降低。

主权项

一种光掩模基板，用于形成为光掩模，该光掩模在主表面形成转印用图案，用于通过安装于接近式曝光装置而与所述接近式曝光装置的载置台所载置的被转印体之间设置接近间隙地进行曝光，来转印所述转印用图案，该光掩模基板的特征在于，通过在所述主表面上的1个或者多个特定区域中进行除去量与该特定区域外的周边区域不同的形状加工，形成凹形状、凸形状或者凹凸形状，来降低将所述光掩模基板安装到所述接近式曝光装置时产生的所述接近间隙的由位置引起的变动，并且，所述形状加工使从所述接近间隙的由位置引起的变动中提取出的所述接近式曝光装置所固有的变动降低。