[发明专利]碳化硅纳米线基发光薄膜的制备方法有效
申请号: | 201210188062.0 | 申请日: | 2012-06-08 |
公开(公告)号: | CN102719029A | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 朱骏;陈小兵;吴悦迪;陈海涛 | 申请(专利权)人: | 扬州大学 |
主分类号: | C08L25/06 | 分类号: | C08L25/06;C08K7/00;C08K3/34;C08J5/18;C09K11/65;C01B31/36;B82Y30/00 |
代理公司: | 扬州苏中专利事务所(普通合伙) 32222 | 代理人: | 王玉霞 |
地址: | 225009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 碳化硅纳米线基发光薄膜的制备方法:先将硅粉末经球磨减小粒径,再按摩尔比为1:1.5-1:2.5与活性炭粉混合,在管式炉中高温反应制成碳化硅纳米线。此过程中,先用高纯氩气清洗管道,在1275-1325℃反应2-4小时,继以在空气中600-700℃加热纯化样品,得到高纯碳化硅纳米线。将碳化硅纳米线与聚苯乙烯颗粒一起加入到甲苯中,超声振荡,使得聚苯乙烯颗粒完全溶解、碳化硅纳米线充分分散,得到分散液;用滴管吸取分散液用旋覆法在硅片上制成湿膜;将湿膜在空气中干燥,得到发光薄膜。本发明制备的薄膜厚度均匀,成品率高,在紫外光激发下,薄膜在波长为410nm处有较强蓝光发射,发光性能稳定。 | ||
搜索关键词: | 碳化硅 纳米 发光 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
碳化硅纳米线基发光薄膜的制备方法,其特征是,包括以下步骤:a. 碳化硅纳米线的制备:(1)将硅粉与玛瑙球一起加入聚氟乙烯罐中,玛瑙球与硅粉的重量比为10:1-15:1,再在其中加入无水乙醇至浸没玛瑙球,密封后用行星式球磨机球磨18-24小时,转速为每分钟350-450转;球磨后的糊状物在真空干燥箱中干燥,减压至0.1标准大气压以下,干燥温度为80-90℃,干燥12-18小时后得到纳米级硅粉末;(2)按硅、碳摩尔比为1:1.5-1:2.5称取纳米级的硅粉末和活性碳粉末,加入玛瑙研钵中,充分研磨使纳米级的硅粉末与活性碳粉末充分混合;将混合后的粉末平铺于一只氧化铝舟中,并将其置于一台水平管式炉的氧化铝管中央,在Ar气保护下于1275-1325℃加热反应2-4小时,之后自然降至室温;在加热之前,往水平管式炉的氧化铝管中通入Ar气,Ar气的流量为400-500标准立方厘米/每分钟,时间为15-25分钟;开始加热后,Ar气的流量保持在10-20标准立方厘米/每分钟,直至系统降至室温,关闭Ar气;(3)将降至室温后的产品在空气中加热至600-700℃,保持2-3小时,得到碳化硅纳米线;b. 以碳化硅纳米线作为基体制备发光薄膜:(1)将碳化硅纳米线加入到甲苯中,再在甲苯中加入聚苯乙烯颗粒,碳化硅纳米线,聚苯乙烯及甲苯的重量比为1 : 1-1.5 : 100-150,超声振荡20-40分钟,直至聚苯乙烯颗粒完全溶解,使得碳化硅纳米线充分分散,得到分散液;(2)用滴管吸取分散液滴于匀胶台上旋转的硅片上,旋转速度为1500-2000转/分钟,制成湿膜;(3)将湿膜在空气中干燥直至薄膜中的甲苯完全挥发,得到碳化硅纳米线基发光薄膜。
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