[发明专利]锍化合物、光致产酸剂及抗蚀剂组合物有效
申请号: | 201210188863.7 | 申请日: | 2012-06-08 |
公开(公告)号: | CN102911094A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 吴贞薰;尹队卿;赵承德;朴素晶 | 申请(专利权)人: | 锦湖石油化学株式会社 |
主分类号: | C07C381/12 | 分类号: | C07C381/12;C07C309/06;C07C309/12;C07D333/46;C07D307/64;C07D303/32;G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 安琪;张晓威 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及锍化合物、光致产酸剂及抗蚀剂组合物。具体而言,本发明提供了由式(1)表示的锍化合物、包含所述锍化合物的光致产酸剂以及包含所述光致产酸剂的抗蚀剂组合物。其中在式1中,X表示给电子基团;R1和R2各自独立地表示烷基等;R4至R6各自独立地表示烷基等;R3表示亚环烯基等;且-A表示阴离子。所述锍化合物具有可通过向一个分子中的阳离子区域引入不同的吸收体而控制的光子产额,当所述锍化合物用作光致产酸剂时可克服使用不同的光致产酸剂的混合物的不便,具有优异的在抗蚀剂中的可混性且具有提高的分辨率和线边缘粗糙度。 | ||
搜索关键词: | 化合物 光致产酸剂 抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
1.由下式(1)表示的锍化合物:[化学式1]其中在式(1)中,X表示给电子基团;R1和R2各自独立地表示选自烷基、环烷基、芳基、杂烷基、杂环烷基和杂芳基中的任意一种,或者R1和R2可与同R1键合的硫原子一起结合以形成具有2至7个碳原子的杂环烷基;R4至R6各自独立地表示选自烷基、环烷基、芳基、杂烷基、杂环烷基和杂芳基中的任意一种,或者R4和R5可与同R4键合的硫原子一起结合以形成具有2至7个碳原子的杂环烷基;R3表示选自亚环烯基、亚杂环烯基、亚芳基和亚杂芳基中的任意一种;且-A表示阴离子。
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