[发明专利]一种合金表面原位氧化反应形成保护膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210190196.6 申请日: 2012-06-11
公开(公告)号: CN102719783A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 刘京雷;颜磊;徐宏;叶先勇;王志远 申请(专利权)人: 华东理工大学
主分类号: C23C8/10 分类号: C23C8/10
代理公司: 上海三和万国知识产权代理事务所 31230 代理人: 朱小晶
地址: 200237 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种精确控制制备合金表面原位氧化反应形成保护膜的制备方法,通过控制氧化气氛中的氧分压及氧化温度,在材料表面形成致密、稳定的三层结构氧化物保护膜。氧化膜由外及内分别是:MnxCr3-xO4(0.5≤x≤1.5)尖晶石层,起主要保护作用;铬的氧化层,可为尖晶石层自修复提供Cr的氧化物;硅氧化物层,作为保护层与基体间元素的扩散障。该保护膜可有效地抑制材料服役时表面氧化、渗碳或结焦,延长使用寿命或清焦周期。
搜索关键词: 一种 合金 表面 原位 氧化 反应 形成 保护膜 制备 方法
【主权项】:
一种合金表面原位氧化反应形成保护膜的制备方法,其特征在于,具体步骤为:(1)将合金材料或管材表面做除油除锈预处理,然后装入热处理炉内;(2)将气体通过电解质溶液,采用鼓泡法引入水蒸气,电解质溶液温度由恒温水浴器控制;气体压力控制在1~5个大气压;然后气体通入到装有合金材料或管材的加热炉内;(3)将炉温升至300~600℃进行低温氧化,升温速率5~20℃/min,达预定温度后保温2~50h;(4)将炉温升至700~1200℃进行高温氧化,升温速率10~30℃/min,达预定温度后保温1~20h;(5)随炉冷却至室温或150℃以下,关闭气体,得到保护膜。
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