[发明专利]一种涂覆增益介质的拉曼光谱高电磁增强基底及制备无效
| 申请号： | 201210191115.4 | 申请日： | 2012-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN102680453A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 刘海涛;张鑫 | 申请（专利权）人： | 南开大学 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65 |
| 代理公司： | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人： | 侯力 |
| 地址： | 300071*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种涂覆增益介质的拉曼光谱高电磁增强基底，为在金属盲孔阵列表面涂覆增益介质的表面增强拉曼光谱基底结构，基底金属上均布有圆形、矩形或三角形盲孔阵列，涂覆的增益介质为罗丹明6G/聚甲基丙烯酸甲酯薄膜，该薄膜通过在有机溶剂中溶入染料分子制备，将罗丹明6G和聚甲基丙烯酸甲酯溶于二氯甲烷中，然后涂覆在基底金属铬膜表面并烘干，形成在基底金属铬膜表面上涂覆有增益介质的薄膜，采用聚焦离子束刻蚀技术在上述薄膜表面加工出盲孔阵列。本发明的优点是：在传统的SERS基底上引进增益介质材料，补偿金属损耗，得到了远高于不含增益介质基底的SERS增强因子，进一步提高了SERS的实用性，并为SERS增强机理的研究提供了技术参考。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 增益 介质 光谱 电磁 增强 基底 制备 | ||
【主权项】：
一种涂覆增益介质的拉曼光谱高电磁增强基底，其特征在于：为在金属盲孔阵列表面涂覆增益介质的表面增强拉曼光谱基底结构，基底金属上均布有圆形、矩形或三角形盲孔阵列，金属基底上涂覆的增益介质为罗丹明6G/聚甲基丙烯酸甲酯薄膜。
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