[发明专利]曝光装置和曝光方法、以及曝光单元及使用该单元的曝光方法有效
| 申请号： | 201210191311.1 | 申请日： | 2012-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN102819195A | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 池渊宏;冈谷秀树 | 申请（专利权）人： | 恩斯克科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人： | 陈波;文琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够提高处理能力，并能够更高效地进行多个基板的曝光的曝光装置和曝光方法、曝光单元以及使用该单元的曝光方法。该接近式曝光装量（11）具有：用于保持具有多个图案（P1、P2）的掩模（M）的掩模载置台（21）；具有用于保持作为被曝光件的多个基板（W1、W2）的工件卡盘（22）的基板载置台（23）；和借助掩模（M）的多个图案（P1、P2）向多个基板（W1、W2）照射曝光用光的照明光学系统。且在保持于工件卡盘（22）的多个基板（W1、W2）与保持于掩模载置台（21）的掩模（M）的各图案（P1、P2）对向配置的状态下，从照明光学系统照射曝光用光，将作为第一层的掩模（M）的各图案（P1、P2）单次曝光到多个基板（W1、W2）上。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 单元 使用 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，具有：用于保持具有图案的掩模的掩模载置台；具有用于将作为被曝光件的多个基板进行保持的工件卡盘的基板载置台；和借助所述掩模的图案向所述基板照射曝光用光的照明光学系统，在保持于所述工件卡盘的所述多个基板与保持于所述掩模载置台的所述掩模图案对向配置的状态下，从所述照明光学系照射所述曝光用光，由此将所述掩模的图案曝光到所述多个基板上。
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