[发明专利]光强分布的测量方法有效
申请号: | 201210192083.X | 申请日: | 2012-06-12 |
公开(公告)号: | CN103487139A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 朱钧;朱景雷;姜开利;冯辰;魏继卿;金国藩;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | G01J1/04 | 分类号: | G01J1/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种光强分布的测量方法,包括以下步骤:提供一设置于基底一表面的碳纳米管阵列,并将该设置于基底的碳纳米管阵列放置于一惰性环境或真空环境中,所述碳纳米管阵列具有一远离基底的第一表面;用一待测光源照射所述碳纳米管阵列的第一表面,使该碳纳米管阵列辐射出可见光;提供一反射镜,使该碳纳米管阵列所辐射的可见光经该反射镜反射;以及利用一成像元件对反射镜所反射的可见光成像,并读出待测光源的光强分布。 | ||
搜索关键词: | 分布 测量方法 | ||
【主权项】:
一种光强分布的测量方法,包括以下步骤:提供一设置于基底一表面的碳纳米管阵列,并将该设置于基底的碳纳米管阵列放置于一惰性环境或真空环境中,所述碳纳米管阵列具有一远离基底的第一表面;用一待测光源照射所述碳纳米管阵列的第一表面,使该碳纳米管阵列辐射出可见光;提供一反射镜,使该碳纳米管阵列所辐射的可见光经该反射镜反射;以及利用一成像元件对反射镜所反射的可见光成像,并读出待测光源的光强分布。
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