[发明专利]用于在晶圆级封装中暴露电极的方法及掩膜版有效
申请号: | 201210194780.9 | 申请日: | 2012-06-13 |
公开(公告)号: | CN102694091A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 蔡连章;刘宗源;吴建国;陈海文 | 申请(专利权)人: | 佛山市国星光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/50 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 528000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于在晶圆级封装中暴露电极的方法,包括:A、通过掩膜版的定位孔将掩膜版与已完成荧光粉涂覆的晶圆定位,使所述掩膜版的网孔与所述晶圆的电极对位;B、向掩膜版的网孔中注入荧光胶溶解液,使晶圆电极表面与掩膜版网孔对位部分的荧光胶层溶解;C、从掩膜版取下所述晶圆并进行清洗和干燥处理。本发明还公开了一种用于在晶圆级封装中暴露电极的掩膜版,包括定位孔和网孔,其中所述定位孔用于将掩膜版与晶圆定位,使所述网孔与所述晶圆的电极对位。 | ||
搜索关键词: | 用于 晶圆级 封装 暴露 电极 方法 掩膜版 | ||
【主权项】:
一种用于在晶圆级封装中暴露电极的方法,其特征在于,包括以下步骤:S101、将掩膜版与已完成荧光粉涂覆的晶圆定位,使所述掩膜版的网孔与所述晶圆的电极对位;S102、向掩膜版的网孔中注入荧光胶溶解液,使晶圆电极表面与掩膜版网孔对位部分的荧光胶层溶解;S103、从掩膜版取下所述晶圆并进行清洗和干燥处理。
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