[发明专利]利用非相干光进行光刻的装置及方法

摘要

利用非相干光进行光刻的装置及方法，属于光学领域，本发明为解决现有光刻技术采用特定偏振态的激光，而导致设备复杂、成本高的问题。本发明所述利用非相干光进行光刻的装置，它包括普通光源、准直系统、半反半透镜、掩模、光刻胶、第一全反镜、第二全反镜和第三全反镜，采用所述利用非相干光进行光刻的装置的光刻方法，该方法为：步骤一、预调准：撤掉光路中的掩模，调节半反半透镜的透射光束和光刻参考光束的干涉面出现在光刻胶中，以保证放入掩模后，掩模的图形能够出现在光刻胶中；步骤二、在光路中放入掩模，所述光刻参考光束与透过掩模的光刻光束在光刻胶中干涉，在光刻胶中形成掩模图形。

主权项

利用非相干光进行光刻的装置，其特征在于，它包括普通光源(1)、准直系统(2)、半反半透镜(3)、掩模(4)、光刻胶(5)、第一全反镜(6)、第二全反镜(7)和第三全反镜(8)，普通光源(1)发射的光经准直系统(2)准直后输出平行光束，所述平行光束被半反半透镜(3)分成反射光束和透射光束，半反半透镜(3)的透射光束通过掩模(4)照射在光刻胶(5)的正面；半反半透镜(3)的反射光束通过第一全反镜(6)、第二全反镜(7)和第三全反镜(8)三次全反射改变光路后，作为光刻参考光束入射至光刻胶(5)的背面。