[发明专利]光刻投影物镜有效
| 申请号： | 201210195608.5 | 申请日： | 2010-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN102707415A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 武珩;黄玲 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/18 | 分类号： | G02B13/18;G02B13/22;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始包括沿光轴依次设置的：第一透镜组、第二透镜组、孔径光阑AS、相对于孔径光阑与第二透镜组对称的第三透镜组、相对于孔径光阑与第一透镜组对称的第四透镜组。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 物镜 | ||
【主权项】：
一种光刻投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在基底上，从掩模开始包括沿着光轴依次设置的：具有正光焦度的第一透镜组；具有负光焦度的第二透镜组；孔径光阑AS；具有负光焦度的第三透镜组，相对于孔径光阑与第二透镜组对称；具有正光焦度的第四透镜组，相对于孔径光阑与第一透镜组对称；第一透镜组接收来自掩模的光线，包含五个光焦度依次为负、负、正、正、正的透镜，第一透镜和第二透镜组成具有负光焦度的子透镜组G1‑1n；第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，准直后出射至第三透镜组，第二透镜组包含四个光焦度依次为负、正、负、正的透镜，第二透镜和第三透镜组成具有负光焦度的子透镜组G2‑1n。
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