[发明专利]一种用掩模板制作大版导光片的方法有效
申请号: | 201210204175.5 | 申请日: | 2012-06-20 |
公开(公告)号: | CN102692673A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 路志坚;杨星;张亚荣;杨云胜 | 申请(专利权)人: | 丹阳博昱科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/00 | 分类号: | G02B6/00;G02B5/04;G03F7/00 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 王新春 |
地址: | 212300 江苏省镇江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种用掩模板制作大版导光片的方法,其特征在于:采用含有多个区域的掩模板,并通过掩模板对涂布于大版导光片基片上的可光聚合材料混合物进行选择性的聚合,在大版导光片基片上形成凸起或凹陷的微结构,构成大版导光片。大版导光片包含多个单元导光片,通过对大版导光片的分割,得到用于LCD背光源和LED照明组件的多个分立单元导光片。本发明公开的方法克服了喷墨打印,射出成型、激光蚀刻等技术的限制,并显著地提高了高性能薄型化导光片的生产速度。 | ||
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【主权项】:
一种用掩模板制作大版导光片的方法,其特征在于:包括以下步骤:1)、设计掩模板:掩模板含有多个区域掩模板图案;区域掩模板图案中含有透光开口和阻光部分,或阻光开口和透光部分组成的掩模板图案;至少一个区域掩模板图案中,透光开口或阻光图案的位置随机或按设定规律分布,透光开口或阻光图案的密度沿至少一个方向逐渐变化;掩模板包含一衬底基片,衬底基片为高平整度的玻璃,通过溅射或蒸发的方式在玻璃表面淀积一金属铬层,在铬层上涂上光学光刻胶或电子束光刻胶,按设计图案,对光刻胶通过光学或电子束方式进行曝光,再经过蚀刻,得到含有透光开口和阻光部分或阻光图案和透光部分组成的多个区域掩模板图案的掩模板;2)、制作大版导光片:将可光聚合材料混合物涂布在大版导光片基片上,形成涂层,并将涂布有可光聚合材料混合物的大版导光片基片放置于步骤1)的掩模板上;使用准直或接近准直的能量辐射,通过掩模板的透光开口或透光部分,选择性地使涂层中可光聚合混合物聚合,并形成固体结构;使用溶剂:甲醇、丙酮、异丙醇或水,洗涤可光聚合混合物涂层,除去涂层中未聚合的部分,在大版导光片基片上形成与所述掩模板区域掩模板图案中透光开口或阻光图案及采用的材料混合物相对应的凸起或凹陷的微结构,构成含有多个单元导光片的大版导光片;通过分割,得到多个分立单元导光片。
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