[发明专利]一种提高铸锭单晶硅收率的方法无效

专利信息
申请号: 201210205294.2 申请日: 2012-06-20
公开(公告)号: CN102732948A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 熊震;付少永;张驰;黄强;黄振飞;刘振淮;陈雪 申请(专利权)人: 常州天合光能有限公司
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/06
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 路接洲
地址: 213031 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种提高铸锭单晶硅收率的方法,是通过控制坩埚底部杂质向籽晶扩散来实现的。本发明基于对坩埚底部杂质向籽晶内部扩散的阻挡,在籽晶底部设置阻挡层;阻挡层包括粉状、薄膜、块体或空隙隔断。相比未设置扩散阻挡层的铸锭单晶,本发明所制备的铸锭单晶晶锭底部的少子寿命得到了大幅度提高,按相同截断标准,晶锭收率提高了3个百分点以上(绝对差值)。
搜索关键词: 一种 提高 铸锭 单晶硅 收率 方法
【主权项】:
一种提高铸锭单晶硅收率的方法,其特征在于包括以下步骤:1)在铸锭坩埚底部设置杂质扩散阻挡层,来阻挡杂质向晶锭内的扩散;2)将厚度为5~50 mm的单晶硅块紧密排列,作为籽晶铺满坩埚底部;3)然后依次将硅料、掺杂元素原料置于坩埚中;4)抽取真空并通入惰性气体N2或Ar,边抽真空边通入惰性气体;5)加热坩埚,使作为籽晶的单晶硅块接触于坩埚底部的部分不熔化,与坩埚不接触的部分、硅料及掺杂元素原料均熔化并在原子尺度上彼此充分混合;6)定向凝固时,使坩埚底部为冷端,籽晶的未熔化部分诱导硅熔体的凝固生长,得到具有特定晶向的铸锭单晶硅。
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