[发明专利]制作微纳金字塔氮化镓基垂直结构发光二极管阵列的方法无效

专利信息
申请号: 201210208853.5 申请日: 2012-06-19
公开(公告)号: CN102694093A 公开(公告)日: 2012-09-26
发明(设计)人: 汪炼成;马骏;刘志强;伊晓燕;王国宏 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种制作微纳金字塔氮化镓基垂直结构发光二极管阵列的方法,包括:选择一外延结构,该外延结构包括蓝宝石衬底和氮化镓LED层,氮化镓LED层包括非故意掺杂氮化镓层,N型氮化镓层,量子阱层和p型氮化镓层;在p型氮化镓层上沉积金属层;将外延结构和金属层转移到衬底上,形成基片;用激光剥离方法,将外延结构中的蓝宝石衬底从外延结构中分离;将基片放入溶液中进行腐蚀,在外延结构的氮化镓LED层的非故意掺杂氮化镓层一面形成分立的微纳金字塔结构;将硅胶涂覆在微纳金字塔结构的表面;用等离子体技术,将微纳金字塔结构尖端部分的硅胶去除,保留微纳金字塔结构底部的硅胶;在微纳金字塔结构的表面沉积透明导电层;在透明导电层上通过光刻方法沉积图形金属电极,完成制备。
搜索关键词: 制作 金字塔 氮化 垂直 结构 发光二极管 阵列 方法
【主权项】:
一种制作微纳金字塔氮化镓基垂直结构发光二极管阵列的方法,包括:步骤1:选择一外延结构,该外延结构包括蓝宝石衬底和氮化镓LED层,氮化镓LED层包括非故意掺杂氮化镓层,N型氮化镓层,量子阱层和p型氮化镓层;步骤2:在外延结构表面的p型氮化镓层上沉积金属层;步骤3:将外延结构和金属层转移到衬底上,形成基片;步骤4:用激光剥离方法,将外延结构中的蓝宝石衬底从外延结构中分离;步骤5:将基片放入溶液99中进行腐蚀,在外延结构的氮化镓LED层的非故意掺杂氮化镓层一面形成分立的微纳金字塔结构;步骤6:将硅胶涂覆在微纳金字塔结构的表面;步骤7:用等离子体技术,将微纳金字塔结构尖端部分的硅胶去除,保留微纳金字塔结构底部的硅胶;步骤8:在微纳金字塔结构的表面沉积透明导电层;步骤9:在透明导电层上通过光刻方法沉积图形金属电极,完成制备。
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