[发明专利]提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管及方法有效

专利信息
申请号: 201210213315.5 申请日: 2012-06-26
公开(公告)号: CN102709304A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 徐江涛;孙羽;高静;史再峰;姚素英 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/102;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 刘国威
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管及方法。本发明涉及互补金属氧化物半导体(CMOS)固态图像传感器。为保证扩展的满阱容量可以全耗尽,使得该扩展是不以损耗图像拖尾性能为前提的,并从根本上提升动态范围、信噪比、灵敏度等像素单元关键性能指标,为达到上述目的,本发明采取的技术方案是,提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管及方法,结构为:在P型外延层内注入一个深度较浅的N埋层,N埋层上面是高浓度掺杂P+钳位层,N埋层下面还设置有第二个N埋层,第二个N埋层内自其与P型外延层交界面处向N埋层内部,形成有纵向的P插入层结构。本发明主要应用于图像传感器的设计制造。
搜索关键词: 提高 图像传感器 容量 量子 效率 光电二极管 方法
【主权项】:
一种提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管,结构为:在P型外延层内注入一个深度较浅的N埋层,N埋层上面是高浓度掺杂P+钳位层,其特征是,在靠近表面的N埋层下面还设置有第二个N埋层,第二个N埋层内自其与P型外延层交界面处,形成有纵向的P插入层结构。
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