[发明专利]提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管及方法有效
申请号: | 201210213315.5 | 申请日: | 2012-06-26 |
公开(公告)号: | CN102709304A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 徐江涛;孙羽;高静;史再峰;姚素英 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L31/102;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 刘国威 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管及方法。本发明涉及互补金属氧化物半导体(CMOS)固态图像传感器。为保证扩展的满阱容量可以全耗尽,使得该扩展是不以损耗图像拖尾性能为前提的,并从根本上提升动态范围、信噪比、灵敏度等像素单元关键性能指标,为达到上述目的,本发明采取的技术方案是,提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管及方法,结构为:在P型外延层内注入一个深度较浅的N埋层,N埋层上面是高浓度掺杂P+钳位层,N埋层下面还设置有第二个N埋层,第二个N埋层内自其与P型外延层交界面处向N埋层内部,形成有纵向的P插入层结构。本发明主要应用于图像传感器的设计制造。 | ||
搜索关键词: | 提高 图像传感器 容量 量子 效率 光电二极管 方法 | ||
【主权项】:
一种提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管,结构为:在P型外延层内注入一个深度较浅的N埋层,N埋层上面是高浓度掺杂P+钳位层,其特征是,在靠近表面的N埋层下面还设置有第二个N埋层,第二个N埋层内自其与P型外延层交界面处,形成有纵向的P插入层结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的