[发明专利]基板处理装置及其异常显示方法、参数设定方法有效
| 申请号： | 201210216850.6 | 申请日： | 2010-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN102760673A | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 守田修 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立国际电气 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;G05B19/406 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈伟;孟祥海 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置及其异常显示方法、参数设定方法，该基板处理装置包括具有操作画面的操作部，该操作画面至少显示输送基板的基板输送机构或处理基板的基板处理机构的状态，上述操作部具有设定画面，该设定画面用于设定与转矩限制有关的信息，该与转矩限制有关的信息包含对上述基板输送机构有无转矩控制功能的信息、或使用转矩控制功能时的转矩控制值，上述设定画面能按作为控制对象的上述基板输送机构的每个轴设定与转矩限制有关的信息。利用本发明，能按驱动各输送机构的执行机构来指定设定安全范围的转矩限制值或有无转矩限制功能，还具有在执行机构停止时能够进行适当的警报显示的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 及其 异常 显示 方法 参数 设定 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，包括具有操作画面的操作部，该操作画面至少显示输送基板的基板输送机构或处理基板的基板处理机构的状态，上述操作部具有设定画面，该设定画面用于设定与转矩限制有关的信息，该与转矩限制有关的信息包含对上述基板输送机构有无转矩控制功能的信息、或使用转矩控制功能时的转矩控制值，上述设定画面能按作为控制对象的上述基板输送机构的每个轴设定与转矩限制有关的信息。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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