[发明专利]一种两层型挠性覆铜板有效
| 申请号： | 201210228020.5 | 申请日： | 2012-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN102717554A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 谢新林;杨念群 | 申请（专利权）人： | 富景资本有限公司 |
| 主分类号： | B32B15/04 | 分类号： | B32B15/04;C23C14/12;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国商标专利事务所有限公司 11234 | 代理人： | 宋义兴;曾海艳 |
| 地址： | 中国香港湾仔谢斐道90*** | 国省代码： | 中国香港;81 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种两层型挠性覆铜板，其包括有机高分子薄膜以及覆盖在该机高分子薄膜上的铜层，其特征在于，所述铜层与所述有机高分子薄膜之间的剥离强度高于0.6N/mm，并且所述两层型挠性覆铜板的制备方法包括通过离子束溅射对有机高分子聚合物薄膜进行镀覆金属的步骤；其中，所述离子束溅射的参数包括：离子束与被轰击的金属靶板平面法线之间的夹角为20-70°，所述溅射离子源与所述金属靶板的被轰击的位置之间的距离为20-40厘米；所述金属靶板上被离子束轰击的位置与所述有机高分子聚合物薄膜接收被轰击出的金属原子处之间的距离为10-30厘米。本发明提供的两层型挠性覆铜板的铜层与有机高分子薄膜之间的剥离强度高，而且厚度比较薄，比18微米薄。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 两层型挠性覆 铜板 | ||
【主权项】：
一种两层型挠性覆铜板，其包括有机高分子薄膜以及覆盖在该机高分子薄膜上的铜层，其特征在于，所述铜层与所述有机高分子薄膜之间的剥离强度高于0.6N/mm，并且所述两层型挠性覆铜板的制备方法包括通过离子束溅射对有机高分子聚合物薄膜进行镀覆金属的步骤；其中，所述离子束溅射的参数包括：离子束与被轰击的金属靶板平面法线之间的夹角为20‑70°，所述溅射离子源与所述金属靶板的被轰击的位置之间的距离为20‑40厘米；所述金属靶板上被离子束轰击的位置与所述有机高分子聚合物薄膜接收被轰击出的金属原子处之间的距离为10‑30厘米。
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