[发明专利]图形化衬底及其形成方法及用于制作所述衬底的掩膜版有效
| 申请号： | 201210230308.6 | 申请日： | 2012-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN102769082A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 丁海生;李东昇;马新刚;江忠永;张昊翔;王洋;李超;逯永建;黄捷 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰明芯科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/20 | 分类号： | H01L33/20;H01L33/00;G03F1/80 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种图形化衬底，包括衬底及位于衬底上方的周期性图形，所述周期性图形由从下至上阶梯型依次堆叠的m+1个圆台或椭圆台或多棱台组成，或由从下至上阶梯型依次堆叠的m个圆台或椭圆台或多棱台和1个圆锥或椭圆锥或多棱锥组成，通过周期性图形微结构可降低由GaN等外延层与衬底之间晶格失配而造成的应力以及GaN等外延层中的位错密度，提高GaN等外延层的晶体质量，更好地改善LED的发光亮度；本发明还提供一种由圆形阵列或椭圆形阵列或多边形阵列组成掩模版，阵列中的每一圆形或椭圆形或多边形区域内部都包含m+1个透光率不同的同心圆环或同心椭圆环或同心多边形环；且本发明提供的利用所述掩模版制作所述图形化衬底的方法，易于实现且成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 衬底 及其 形成 方法 用于 制作 掩膜版 | ||
【主权项】：
一种图形化衬底，包括衬底和衬底表面的周期性图形，其特征在于：所述周期性图形包括下列情况中的任意一种：(1)由从下至上阶梯型依次堆叠的m+1个圆台、(2)由从下至上阶梯型依次堆叠的m+1个椭圆台、(3)由从下至上阶梯型依次堆叠的m+1个多棱台、(4)由从下至上阶梯型依次堆叠的m个圆台和位于最上端圆台的1个圆锥、(5)由从下至上阶梯型依次堆叠的m个椭圆台和位于最上端椭圆台的椭圆锥、(6)由从下至上阶梯型依次堆叠的m个多棱台和位于最上端多棱台的多棱锥，其中m为自然数，所述m的取值范围为1＜m＜1000。
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