[发明专利]高纯电镀级硫酸铜除铅工艺

摘要

本发明的主要内容是以含铜蚀刻废液为原料，经过净化除铅工艺，除去含铜蚀刻废液中的杂质铅，使最终生成的电镀级硫酸铜中的铅含量不大于5ppm，达到国标优等品的要求；其特征在于包括以下步骤：（1）含铜蚀刻废液的过滤去除机械杂质；（2）净化除铅；（3）酸碱中和生成铜盐沉淀；（4）铜盐沉淀洗涤纯化；（5）浓硫酸酸化；（5）冷却结晶生成硫酸铜结晶。本发明工艺具有生产成本低，工艺简单，生产出的硫酸铜纯度高，除铅率高等优点。

主权项

一种高纯电镀级硫酸铜除铅工艺，其特征在于该工艺包括以下步骤：（1）将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液分别压滤，除去机械杂质；（2）称取一定质量的Na2SO4和可溶性钡盐，分别溶解在水中配成溶液；（3）在搅拌下将钡盐溶液和Na2SO4溶液加入酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液中，加完之后继续搅拌反应一段时间；（4）将反应完成之后的酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液沉降，过滤；（5）中和酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液；（6）陈化，过滤；（7）洗涤；（8）酸化；（9）冷却结晶。