[发明专利]一种多晶硅生产工艺及用于该工艺的生产系统有效

专利信息
申请号: 201210236855.5 申请日: 2012-07-10
公开(公告)号: CN102745694A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 齐林喜;郭金强;郝爱科;张文奎;朱涛;邢仕益 申请(专利权)人: 内蒙古盾安光伏科技有限公司
主分类号: C01B33/035 分类号: C01B33/035
代理公司: 北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙) 11367 代理人: 谢亮;赵德兰
地址: 015543 内蒙古自*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明涉及一种多晶硅生产工艺及用于该工艺的生产系统。包括将浓度99.99%以上的精三氯氢硅与氢气按氢气:精三氯氢硅摩尔比为4~3:1的比例混合作为混合气进料通入CVD还原炉,混合气进料依次通过鼓泡式汽化器、出入器换热器、串联的CVD还原炉主炉和CVD还原炉辅炉;经过CVD还原炉辅炉排出的终极尾气换热后进入CVD还原炉主炉,在CVD还原炉主炉内硅芯表面发生反应生成多晶硅,其副产物为中间尾气;中间尾气再混合补充的精三氯氢硅气体后接着进入CVD还原炉辅炉,在CVD还原炉辅炉内的硅芯表面发生反应生成多晶硅,其副产物为终极尾气;终极尾气出炉后与混合气进料换热后再进入还原尾气回收系统。该工艺及生产系统可高效率、低成本地生产高质量的电子级多晶硅。
搜索关键词: 一种 多晶 生产工艺 用于 工艺 生产 系统
【主权项】:
一种多晶硅生产工艺,包括将精三氯氢硅与氢气按比例混合作为混合气进料通入CVD还原炉,其特征在于:包括如下步骤,混合气进料依次通过鼓泡式汽化器、出入器换热器、串联的CVD还原炉主炉和CVD还原炉辅炉;经过CVD还原炉辅炉排出的终极尾气换热后进入CVD还原炉主炉,在CVD还原炉主炉内硅芯表面发生反应生成多晶硅,其副产物为中间尾气;中间尾气再混合补充的精三氯氢硅气体后接着进入CVD还原炉辅炉,在CVD还原炉辅炉内的硅芯表面发生反应生成多晶硅,其副产物为终极尾气;终极尾气出炉后与混合气进料换热后再进入还原尾气回收系统。
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