[发明专利]流体处理结构、光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201210238530.0 | 申请日： | 2012-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN102880006A | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | R·H·M·考蒂;N·坦凯特;N·J·J·罗塞特;M·瑞鹏;H·J·卡斯特里金斯;C·M·诺普斯;J·V·奥沃卡姆普 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有：弯液面钉扎特征，用以抵抗浸没流体沿径向向外的方向离开所述空间；线性阵列形式的多个气体供给开口，其至少部分地围绕弯液面钉扎特征并且在弯液面钉扎特征的径向向外位置处；其中所述线性阵列的多个气体供给开口的尺寸类似或相同。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 结构 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有：一个或多个弯液面钉扎特征，用以抵抗浸没流体沿径向向外的方向离开所述空间；线性阵列形式的多个气体供给开口，其至少部分地围绕弯液面钉扎特征并且在弯液面钉扎特征的径向向外位置处，其中所述多个气体供给开口布置成线性阵列的每单位长度供给大体一致的气体流量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210238530.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
