[发明专利]一种调焦调平光斑位置校准方法有效
| 申请号： | 201210240355.9 | 申请日： | 2012-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN103543610A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 陈南曙 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种调焦调平光斑位置校准方法，其特征在于，包括：（a）将一光源经狭缝后在基板上形成测量光斑；（b）移动所述基板至所述测量光斑位置处；（c）扫描所述测量光斑的左右两侧边界，探测所述测量光斑经所述基板反射后的信号，获得所述测量光斑的水平位置及放大倍率；（d）使所述测量光斑在所述基板内侧的边缘步进运动；（e）探测所述测量光斑的实际高度值，根据所述实际高度和所述水平位置进行拟合运算，获得所述测量光斑的零位偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调焦 平光 位置 校准 方法 | ||
【主权项】：
一种调焦调平光斑位置校准方法，其特征在于，包括：（a）将一光源经狭缝后在基板上形成测量光斑；（b）移动所述基板至所述测量光斑位置处；（c）扫描所述测量光斑的左右两侧边界，探测所述测量光斑经所述基板反射后的信号，获得所述测量光斑的水平位置及放大倍率；（d）使所述测量光斑在所述基板内侧的边缘步进运动；（e）探测所述测量光斑的实际高度值，根据所述实际高度和所述水平位置进行拟合运算，获得所述测量光斑的零位偏差。
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