[发明专利]一种ZnS1-xSex半导体薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210245122.8 申请日: 2012-07-16
公开(公告)号: CN102808174A 公开(公告)日: 2012-12-05
发明(设计)人: 刘俊;刘军;魏爱香;庄米雪 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: C23C26/00 分类号: C23C26/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 林丽明
地址: 510006 广东省广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种ZnS1-xSex半导体薄膜的制备方法,采用化学水浴沉积法,以硫酸锌作为Zn2+源,以硫脲作为S2-源,以硒代硫酸钠溶液作为Se2-源,以氨水作为缓冲剂,以水合肼作为络合剂,配制化学浴反应的前驱物,在衬底上制备粒径分布均匀、致密且附着力较好的ZnS1-xSex薄膜材料;所得到的ZnS1-xSex薄膜材料具有带隙宽度可调的优点,可应用于铜铟镓硒薄膜太阳能电池、激光器、发光二极管等光电子器件领域。
搜索关键词: 一种 zns sub se 半导体 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种ZnS1‑xSex半导体薄膜的制备方法,其特征在于:采用化学水浴沉积法,以硫酸锌作为Zn2+源,以硫脲作为S2‑源,以硒代硫酸钠溶液作为Se2‑源,以氨水作为缓冲剂,以水合肼作为络合剂,配制化学浴反应的前驱物,把清洗干净的衬底沿着烧杯壁竖直浸入溶液中,用铝箔把烧杯口密封后,放入水浴锅中进行恒温反应,制备得到了ZnS1‑xSex半导体薄膜层。
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