[发明专利]一种ZnS1-xSex半导体薄膜的制备方法无效
申请号: | 201210245122.8 | 申请日: | 2012-07-16 |
公开(公告)号: | CN102808174A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 刘俊;刘军;魏爱香;庄米雪 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | C23C26/00 | 分类号: | C23C26/00 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 林丽明 |
地址: | 510006 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种ZnS1-xSex半导体薄膜的制备方法,采用化学水浴沉积法,以硫酸锌作为Zn2+源,以硫脲作为S2-源,以硒代硫酸钠溶液作为Se2-源,以氨水作为缓冲剂,以水合肼作为络合剂,配制化学浴反应的前驱物,在衬底上制备粒径分布均匀、致密且附着力较好的ZnS1-xSex薄膜材料;所得到的ZnS1-xSex薄膜材料具有带隙宽度可调的优点,可应用于铜铟镓硒薄膜太阳能电池、激光器、发光二极管等光电子器件领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 zns sub se 半导体 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种ZnS1‑xSex半导体薄膜的制备方法,其特征在于:采用化学水浴沉积法,以硫酸锌作为Zn2+源,以硫脲作为S2‑源,以硒代硫酸钠溶液作为Se2‑源,以氨水作为缓冲剂,以水合肼作为络合剂,配制化学浴反应的前驱物,把清洗干净的衬底沿着烧杯壁竖直浸入溶液中,用铝箔把烧杯口密封后,放入水浴锅中进行恒温反应,制备得到了ZnS1‑xSex半导体薄膜层。
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