[发明专利]化学机械抛光水性组合物及钛基片化学机械抛光工艺方法有效
| 申请号： | 201210248460.7 | 申请日： | 2012-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN102796458A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 路新春;戴媛静;潘国顺;雒建斌 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/06 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 李志东 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学机械抛光水性组合物及钛基片化学机械抛光工艺方法。其中，化学机械抛光水性组合物包含：1-20重量%，优选4-6重量%的磨料；0.5-10重量%，优选0.9-3重量%的氧化剂；0.01-10重量%，优选0.1-2重量%的络合剂；以及0.1-10重量％，优选1-5重量%的缓蚀成膜剂，其中，所述化学机械抛光水性组合物的pH值为1.0-7.0，优选1.5-4.0。本发明的化学机械抛光水性组合物能够有效地应用于钛基片的化学机械抛光工艺，从而能够有效地获得高抛光速率、高表面质量的抛光钛金属层。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 水性 组合 钛基片 工艺 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光水性组合物，其特征在于，包含：1‑20重量%，优选4—6重量%的磨料；0.5‑10重量%，优选0.9‑3重量%的氧化剂；0.01‑10重量%，优选0.1‑2重量%的络合剂；以及0.1‑10重量%，优选1‑5重量%的缓蚀成膜剂，其中，所述化学机械抛光水性组合物的pH值为1.0‑7.0，优选1.5‑4.0。
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