[发明专利]一种联通井钻进过程中校正目标点位置的方法有效
| 申请号： | 201210249189.9 | 申请日： | 2012-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN103485713A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 荆小兵;司万春;郑翔 | 申请（专利权）人： | 南风化工集团股份有限公司 |
| 主分类号： | E21B7/00 | 分类号： | E21B7/00;E21B47/04 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 亓赢 |
| 地址： | 044000 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 一种联通井钻进过程中校正目标点位置的方法，包括以下步骤：(1)确定标志地层：根据地质资料，在地面至目标点C之间稳定的地质层之中选择至少一个标志地层；(2)钻进过程中，根据钻时数据、岩屑分析、组合测井结果实时确定各标志地层的实际深度；(3)根据各标志地层的实际深度与理论深度之间的差距修正目标点深度和/或造斜点深度。在地面至目标点C之间稳定的地质层之中，选择硬度、电阻率和/或密度特征的地层作为标志地质层。钻进中根据钻时、地层硬度、电阻率和/或地层密度数据，实时测量各标志地层的实际深度。本发明的优点是：可以有效消除钻井设计误差，操作简便，易于实施，缩短钻井施工周期，确保达到矿井设计开采回采率，杜绝返工现象发生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 联通 钻进 过程 校正 目标 位置 方法 | ||
【主权项】：
一种联通井钻进过程中校正目标点位置的方法，其特征在于包括以下步骤：(1)确定标志地层：根据地质资料，在地面至目标点C之间稳定的地质层之中选择至少一个标志地层；(2)钻进过程中，根据钻时数据、岩屑分析、组合测井结果实时确定各标志地层的实际深度；(3)根据各标志地层的实际深度与理论深度之间的差距修正目标点深度和/或造斜点深度。
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