[发明专利]GaInP/GaAs/Ge/Ge四结太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201210249553.1 | 申请日: | 2012-07-19 |
公开(公告)号: | CN102790119A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 赵勇明;董建荣;李奎龙;孙玉润;于淑珍;杨辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | H01L31/0687 | 分类号: | H01L31/0687;H01L31/18 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 孙佳胤;翟羽 |
地址: | 215125 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种GaInP/GaAs/Ge/Ge四结太阳能电池,包括Ge衬底层,以及在所述Ge衬底层上依次设置的第一Ge子电池、第一隧穿结、第二Ge子电池、第二隧穿结、GaAs子电池、第三隧穿结、GaInP子电池和(In)GaAs或Ge的接触层。本发明还提供一种GaInP/GaAs/Ge/Ge四结太阳能电池的制备方法,包括步骤:1)提供一Ge衬底层;2)在Ge衬底层表面生长第一Ge子电池;3)在第一Ge子电池表面生长第一隧穿结;4)在第一隧穿结表面生长第二Ge子电池;5)在第二Ge子电池表面生长第二隧穿结;6)在第二隧穿结表面生长GaAs子电池;7)在GaAs子电池表面生长第三隧穿结;8)在第三隧穿结表面生长GaInP子电池;9)在GaInP子电池表面生长接触层。 | ||
搜索关键词: | gainp gaas ge 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种GaInP/GaAs/Ge/Ge四结太阳能电池,其特征在于,包括Ge衬底层,以及在所述Ge衬底层上依次设置的第一Ge子电池、第一隧穿结、第二Ge子电池、第二隧穿结、GaAs子电池、第三隧穿结、GaInP子电池和(In)GaAs或Ge的接触层。
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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