[发明专利]一种双辉化学气相沉积装置及工艺无效
申请号: | 201210259397.7 | 申请日: | 2012-07-24 |
公开(公告)号: | CN103572252A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 陈照峰;吴王平 | 申请(专利权)人: | 苏州宏久航空防热材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/50;C23C16/455 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215400 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及材料表面改性技术,特别提供了一种双辉化学气相沉积装置及工艺。该装置为一个密闭的沉积室,沉积室有一至三个进气口和一个出气口,一个阳极和两个阴极组成。沉积室内壁材质为不锈钢,沉积真空室内的结构件为金属和/或石墨材料;沉积室极限真空10-3Pa以下,沉积室内的工作气压0.01Pa-50Pa;进气口气体为氩气、硅烷、金属醇盐等反应气体;装置中阳极接通于沉积室,两个阴极分别接通于靶材和工件材料,其中工件电压范围为0V~-1200V,靶材电压范围为0V~-1200V;装置中工件表面温度为800℃-1200℃,且该温度是工件材料附近局部区域的温度。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 装置 工艺 | ||
【主权项】:
一种双辉化学气相沉积装置,包括一个密闭的沉积室、进气、排气和抽真空系统,其特征在于沉积室有一至三个进气口和一个出气口,一个阳极、一个放置工件的阴极和一个放置靶材的阴极。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的