[发明专利]制备亚微米级绒面结构单晶硅片的织构液及其制备方法有效
| 申请号： | 201210260235.5 | 申请日： | 2012-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN102747426A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 韩延刚;吴琳琳;余学功;王栋 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10;C23F1/32 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 周烽 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备亚微米级绒面结构单晶硅片的织构液及其制备方法，其组分包括无机碱，低级醇，阴离子或非离子型表面活性剂和余量的去离子水；其制法为：先将去离子水加入制绒槽中，在搅拌的条件下依次加入无机碱，低级醇，阴离子或非离子型表面活性剂，继续搅拌10~30分钟，使其充分溶解、混合；该织构液可在硅片表面形成均匀的、亚微米级的金字塔结构，且覆盖率高，织构效果优异，工艺简单，易于实现。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 微米 级绒面 结构 单晶硅 织构液 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种制备亚微米级绒面结构单晶硅片的织构液，其特征在于，它主要由无机碱、低级醇、阴离子或非离子型表面活性剂和去离子水等组成；其中，所述无机碱、低级醇、阴离子或非离子型表面活性剂和去离子水的重量配比为：1‑5:2‑10:0.1‑1:100。
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