[发明专利]一种刻蚀设备及其上部电极无效
| 申请号： | 201210265642.5 | 申请日： | 2012-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN102797012A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 蒋冬华;李炳天;傅永义;赵吾阳 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;C30B33/12;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种刻蚀设备及其上部电极，涉及机械结构领域，所述上部电极上设有多个电极孔，所述上部电极至少由第一区域和第二区域组成，所述电极孔在所述第一区域的分布密度和所述电极孔在所述第二区域的分布密度不同。本发明根据所刻蚀膜层材质的不同，改变上部电极上的电极孔的设置区域和电极孔间的间隔，从而实现了改善刻蚀率均一性的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 设备 及其 上部 电极 | ||
【主权项】：
一种刻蚀设备的上部电极，所述上部电极上设有多个电极孔，其特征在于，所述上部电极至少由第一区域和第二区域组成，所述电极孔在所述第一区域的分布密度和所述电极孔在所述第二区域的分布密度不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210265642.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
