[发明专利]溅射靶及其制法、利用该靶得到的薄膜、薄膜片及层叠片在审
| 申请号： | 201210270117.2 | 申请日： | 2012-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN102965630A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 樱井英章;有泉久美子 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;C04B35/453;C04B35/14 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种适于形成透明性及气体遮断性优异的薄膜的溅射靶及其制造方法、利用该靶得到的薄膜、具备该薄膜的薄膜片以及层叠片。本发明的溅射靶，其特征在于，由将氧化锌（ZnO）和一氧化硅（SiO）作为主要成分的烧结体构成，烧结体的相对密度为95%以上，氧化锌（ZnO）与一氧化硅（SiO）的摩尔比为40：60～95：5。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制法 利用 得到 薄膜 层叠 | ||
【主权项】：
一种ZnO‑SiO类溅射靶，其特征在于，由将氧化锌ZnO和一氧化硅SiO作为主要成分的烧结体构成，所述烧结体的相对密度为95%以上，所述氧化锌ZnO与所述一氧化硅SiO的摩尔比为40：60～95：5。
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