[发明专利]对位结构无效
| 申请号： | 201210270313.X | 申请日： | 2012-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN102800657A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 王志豪;黄柏辅;陈志宏 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;李岩 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对位结构位于基板上，其中对位结构包含内金属介电层与栅状结构。内金属介电层位于基板上。栅状结构包含栅状金属层与栅状抗反射层。栅状金属层位于内金属介电层上。栅状抗反射层位于栅状金属层上，且栅状抗反射层与栅状金属层围绕的区域内形成有一对位部。 | ||
| 搜索关键词： | 对位 结构 | ||
【主权项】：
一种对位结构，位于一基板上，该对位结构包含：一内金属介电层，位于该基板上；以及一栅状结构，包含：一栅状金属层，位于该内金属介电层上；以及一栅状抗反射层，位于该栅状金属层上，且该栅状抗反射层与该栅状金属层围绕的区域内形成有一对位部。
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