[发明专利]曝光装置无效
| 申请号： | 201210274494.3 | 申请日： | 2004-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN102854755A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 木内彻;三宅寿弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 金春实 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置（EX），是经由投影光学系统（PL）和液体（LQ）将图形像投影在衬底（W）上的装置，投影光学系统（PL），具有与液体（LQ）接触的光学部件（G12）以及配置在光学部件（G12和中间掩模（R）之间的光学组（MPL）。保持光学部件（G12）和光学组（MPL）的保持机构（HG），以相对于光学组（MPL）可动的方式保持光学部件（G12）。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，经由所述投影光学系统和所述液体将图形曝光到衬底，该曝光装置具有：配置在构成所述投影光学系统的多个光学部件中的与所述液体接触的光学部件的周围的环状的保持部件，和向与所述液体接触的光学部件的周缘部和所述环状的保持部件之间的间隙供给气体的气体供给管。
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