[发明专利]一种光学临近矫正方法有效
| 申请号： | 201210275387.2 | 申请日： | 2012-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN103576443A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 陈洁;王谨恒;万金垠;张雷 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种光学临近矫正方法，该方法通过在光学临近矫正程序中，加入对因覆盖孔而引起的凸起的清理程序，在执行OPC处理程序之前，首先对目标图形进行该清理程序，修复所有由孔引起的凸起，进而避免OPC处理过程中因该些凸起产生的缺陷问题。由于本发明的清理程序全依赖图形软件执行，无需对现有的OPC设备进行硬件层面的调整，并且处理过程自动快速，几乎不对工艺的周期产生影响，在提高产品品质的同时，大大节省了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 临近 矫正 方法 | ||
【主权项】：
一种光学临近矫正方法，其特征在于，所述矫正方法包括步骤：根据工艺规格确定光刻工艺参数；根据所述光刻工艺参数确定光学临近矫正模型，建立光学临近矫正的运算程序；清理孔与金属层叠加后形成的凸起，生产OPC待处理文件；对所述OPC待处理文件运行所述光学临近矫正的运算程序，得到该待处理文件的修正图形；以所述修正图形为掩膜图形，进行掩膜板制造。
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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