[发明专利]二氧化锗制备新工艺有效
| 申请号： | 201210275487.5 | 申请日： | 2012-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN102774877A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 王少龙;孙成余;彭明清;杨金彩;杨汝雄;何斌;蔡文红 | 申请（专利权）人： | 云南驰宏锌锗股份有限公司 |
| 主分类号： | C01G17/02 | 分类号： | C01G17/02 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 李志东 |
| 地址： | 655011 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种二氧化锗制备新工艺。根据本发明的实施例，该方法包括：四氯化锗在全密闭水解釜中，对四氯化锗进行水解，以得到四氯化锗水解产物;将所述四氯化锗水解产物进行离心过滤，得到二氧化锗和滤液；以及利用高纯水对二氧化锗进行清洗，以便得到高纯二氧化锗和清洗液。根据本发明实施例的方法，自动化程度高、GeO2水解产出率高、离心分离固液效果好、生产成本低、金属损失少、环境友好的GeO2水解、过滤、洗涤的方法和装置。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 制备 新工艺 | ||
【主权项】：
一种制备二氧化锗的方法，其特征在于，包括：四氯化锗在全密闭水解釜中进行水解，以便得到四氯化锗水解产物，所述四氯化锗水解产物为二氧化锗和氯化氢，氯化氢易溶于水而生成盐酸；将所述四氯化锗水解产物进行离心过滤，以便得到二氧化锗和滤液；利用高纯水对所述二氧化锗进行洗涤，得到高纯二氧化锗和清洗液。
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