[发明专利]一种刻蚀后去胶的溶液和方法无效
| 申请号： | 201210280932.7 | 申请日： | 2012-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN102854761A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 宋超;刘榕;王江波 | 申请（专利权）人： | 华灿光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 徐立 |
| 地址： | 430223 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种刻蚀后去胶的溶液和方法，属于半导体发光器件制造技术领域。所述溶液由碱、醇和蒸馏水组成；其中所述碱的质量分数为10%至25%，所述醇的质量分数为5%至20%，所述蒸馏水的质量分数为60%至70%。所述方法包括：将刻蚀后的晶片放入混合后的溶液中，浸泡后取出冲水并甩干。本发明通过组成成分为碱、醇和蒸馏水的溶液，将刻蚀后的晶片放入其中浸泡，然后取出冲水并甩干；能够有效去除刻蚀后的光刻胶。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 后去胶 溶液 方法 | ||
【主权项】：
一种刻蚀后去胶的溶液，其特征在于，所述溶液由碱、醇和蒸馏水组成；其中所述碱的质量分数为10%至25%，所述醇的质量分数为5%至20%，所述蒸馏水的质量分数为60%至70%。
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