[发明专利]硅料沉淀分选清洗溶液及其配制与使用方法无效
申请号: | 201210285736.9 | 申请日: | 2012-08-13 |
公开(公告)号: | CN102814297A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 石坚;孙志刚;刘茂华;韩子强;曹洋 | 申请(专利权)人: | 安阳市凤凰光伏科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/08 | 分类号: | B08B3/08 |
代理公司: | 安阳市智浩专利代理事务所 41116 | 代理人: | 王好勤 |
地址: | 456400 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 硅料沉淀分选清洗溶液及其配制与使用方法,涉及分选清洗技术领域,清洗溶液指具有清洗作用且密度小于待清洗多晶硅材料的溶液;当含有杂质的硅材料投入到溶液中,杂质会漂浮到溶液表面,而硅材料会沉在溶液底部。配制时,在30至50摄氏度的水域条件下配置三氯化锑溶液,溶液饱和形成溶液1;在60至90摄氏度水域条件下配置氯化锌溶液,溶液饱和形成溶液2;把溶液2与溶液1混合,并调节两种溶液的比例,从而得到密度为1.70g/ml~2.30g/ml的清洗溶液。本发明的有益效果是:具有分层处理的优点,可轻松的把硅材料中的比硅密度低的杂质清洗分离出来,并且所配置溶液可以回收利用,不仅减少了分选清洗过程中的金属离子引入,节约了人工成本,还减少了化学品的排放。 | ||
搜索关键词: | 沉淀 分选 清洗 溶液 及其 配制 使用方法 | ||
【主权项】:
硅料沉淀分选清洗溶液,其特征在于:清洗溶液指具有清洗作用且溶液密度小于待清洗多晶硅材料的溶液;当含有杂质的硅材料投入到溶液中,杂质会漂浮到溶液表面,而硅材料会沉在溶液底部。
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