[发明专利]硬涂薄膜有效
| 申请号： | 201210286747.9 | 申请日： | 2012-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN102950846A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 本乡有记;江嶋由多加;那须健司 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/04 | 分类号： | B32B27/04;B32B27/06;B32B33/00 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种硬涂薄膜，其层结构简单且铅笔硬度高(3H以上)，且具有加工适应性，并且透射清晰度优异，适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件。在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7～14μm的硬涂层，该硬涂层通过使包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成，该硬涂层形成材料中，在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35～65质量％，其中，(1)前述硬涂层表面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度为450以上，其依照JIS K 7374：2007测定，以针对5种狭缝的基于透射法的像清晰度的合计值表示。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 | ||
【主权项】：
一种硬涂薄膜，其特征在于，在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7～14μm的硬涂层，该硬涂层通过使包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成，该硬涂层形成材料中，在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35～65质量％，其中，(1)前述硬涂层表面依照JIS B 0601‑1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601‑1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度为450以上，其依照JISK 7374：2007测定，以针对狭缝宽度为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm的5种狭缝的基于透射法的像清晰度的合计值表示。
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