[发明专利]用于微光刻的投射物镜有效
申请号: | 201210286762.3 | 申请日: | 2009-02-28 |
公开(公告)号: | CN102819196A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 约翰尼斯.泽尔纳;汉斯-于尔根.曼;马丁.恩德雷斯 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种用于微光刻的投射物镜(7)被用于将物平面(5)中的物场(4)成像为像平面(9)中的像场(8)。所述投射物镜(7)包括至少六个反射镜(M1至M6),其中至少一个反射镜具有自由形状反射面。根据本发明的第一方面,投射物镜(7)的总长度(T)与物像位移(dOIS)的比小于12。根据本发明的另一方面,像平面(9)是物平面(5)的下游的投射物镜(7)的第一个场平面。根据本发明的另一方面,投射物镜具有多个反射镜(M1至M6),其中总长度(T)与物像位移(dOIS)之间的比小于2。 | ||
搜索关键词: | 用于 微光 投射 物镜 | ||
【主权项】:
光学系统,包括:‑用于微光刻的照明光学系统(6),用于引导由光源(2)发射的照明光(3),以及用于照明物场(4);‑投射光学系统(16),用于将所述物场(4)成像为像场(8);‑其中,将所述照明光学系统(6)设计为使得所述照明光(3)在所述光源(2)和所述物场(4)之间具有中间焦点(23),其特征在于所述投射光学系统(16)的总长度(T)与中间焦点像位移(D)之间的比小于5。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司,未经卡尔蔡司SMT有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210286762.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:ATM外钞门
- 下一篇:加强的框架与车身的连接件