[发明专利]用于微光刻的投射物镜有效

专利信息
申请号: 201210286762.3 申请日: 2009-02-28
公开(公告)号: CN102819196A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 约翰尼斯.泽尔纳;汉斯-于尔根.曼;马丁.恩德雷斯 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种用于微光刻的投射物镜(7)被用于将物平面(5)中的物场(4)成像为像平面(9)中的像场(8)。所述投射物镜(7)包括至少六个反射镜(M1至M6),其中至少一个反射镜具有自由形状反射面。根据本发明的第一方面,投射物镜(7)的总长度(T)与物像位移(dOIS)的比小于12。根据本发明的另一方面,像平面(9)是物平面(5)的下游的投射物镜(7)的第一个场平面。根据本发明的另一方面,投射物镜具有多个反射镜(M1至M6),其中总长度(T)与物像位移(dOIS)之间的比小于2。
搜索关键词: 用于 微光 投射 物镜
【主权项】:
光学系统,包括:‑用于微光刻的照明光学系统(6),用于引导由光源(2)发射的照明光(3),以及用于照明物场(4);‑投射光学系统(16),用于将所述物场(4)成像为像场(8);‑其中,将所述照明光学系统(6)设计为使得所述照明光(3)在所述光源(2)和所述物场(4)之间具有中间焦点(23),其特征在于所述投射光学系统(16)的总长度(T)与中间焦点像位移(D)之间的比小于5。
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