[发明专利]气体分配装置及具有其的等离子体处理设备有效
| 申请号： | 201210289028.2 | 申请日： | 2012-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN103594313A | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | 张金斌 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成;黄德海 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种气体分配装置，包括：上盖，上盖具有进气通道且上盖的下表面设有容纳槽；和第一分配板，第一分配板设在容纳槽内且在第一分配板的上表面与容纳槽的顶壁之间限定出与进气通道连通的第一空间，第一分配板设有多个第一分配孔，多个第一分配孔的孔径和分布密度中的至少一个沿远离进气通道的方向上增大。根据本发明的气体分配装置，使得工艺气体能均匀的分布在工艺腔室内。本发明还提出了一种具有上述气体分配装置的等离子体处理设备。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 分配 装置 具有 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种气体分配装置，其特征在于，包括：上盖，所述上盖具有进气通道且所述上盖的下表面设有容纳槽；和第一分配板，所述第一分配板设在所述容纳槽内且在所述第一分配板的上表面与所述容纳槽的顶壁之间限定出与所述进气通道连通的第一空间，所述第一分配板设有多个第一分配孔，所述多个第一分配孔的孔径和分布密度中的至少一个沿远离所述进气通道的方向上增大。
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