[发明专利]聚合物组合物和含有该组合物的光致抗蚀剂有效
申请号: | 201210292562.9 | 申请日: | 2012-06-26 |
公开(公告)号: | CN102850484A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | J·W·克莱默 | 申请(专利权)人: | 陶氏环球技术有限公司 |
主分类号: | C08F220/28 | 分类号: | C08F220/28;C08F220/18;C08F220/24;C08F220/38;C08F2/38;G03F7/004;G03F7/039 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 江磊 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: |
一种聚合物包含下述物质的聚合产物:单体,包含酸可脱保护单体,碱可溶单体,含有内酯的单体和光致释酸单体;下述结构式的链转移剂: |
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搜索关键词: | 聚合物 组合 含有 光致抗蚀剂 | ||
【主权项】:
1.一种聚合物,其包含下述物质的聚合产物:单体,包括具有结构式(I)的酸可脱保护单体,具有结构式(II)的碱可溶单体,结构式(III)的含有内酯的单体和结构式(IV)的光致释酸单体:
其中,每个Ra独立地为H,F,C1-10烷基,或C1-10氟烷基,Rb独立地为C1-20烷基,C3-20环烷基,C6-20芳基,或C7-20芳烷基,每个Rb各自独立或至少一个Rb与相邻的Rb相连形成环状结构,Q1是含有酯或不含有酯的C1-20烷基,C3-20环烷基,C6-20芳基,或C7-20芳烷基,W为碱可反应基团,包括-C(=O)-OH;-C(CF3)2-OH;-NH-SO2-Y1;其中Y1为F或C1-4的全氟烷基;芳族-OH;或含有乙烯基醚的前述任意物质的加合物,a为1-3的整数,L为单环,多环,或稠多环的C4-20含内酯的基团,Q2是含有酯或不含有酯且氟化或未氟化的,为C1-20烷基,C3-20环烷基,C6-20芳基或C7-20芳烷基,A是含有酯或不含有酯且氟化或未氟化的,为C1-20烷基,C3-20环烷基,C6-20芳基或C7-20芳烷基,Z为阴离子部分,包括磺酸根,磺酰胺阴离子,或磺酰亚胺阴离子,G为结构式(V):
其中,X为S或I,每个Rc为卤化或非卤化的,且各自独立地为C1-30烷基;多环或单环C3-30环烷基;多环或单环C4-30芳基,其中当X为S时,一个Rc任选地与一个相邻的Rc通过单键相连,且z为2或3,其中当X为I时,z为2,或当X为S时,z为3;结构式(IX)的链转移剂;
其中,在结构式(IX)中:Z为y价C1-20有机基团,x为0或1,Rd为取代或未取代的C1-20烷基,C3-20环烷基,C6-20芳基,或C7-20芳烷基;和任选的,引发剂。
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