[发明专利]一种被动调Q激光器有效

专利信息
申请号: 201210296175.2 申请日: 2012-08-20
公开(公告)号: CN103633536B 公开(公告)日: 2017-04-19
发明(设计)人: 吴砺;凌吉武;贺坤;韩晓明;任策;刘国宏 申请(专利权)人: 福州高意通讯有限公司
主分类号: H01S3/063 分类号: H01S3/063;H01S3/042
代理公司: 北京市炜衡律师事务所11375 代理人: 张辉
地址: 350001 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及激光技术领域,公开了一种被动调Q激光器,包括泵浦源、泵浦耦合系统、激光增益介质和可饱和吸收体,泵浦源发出泵浦光经泵浦耦合系统进入激光增益介质,可饱和吸收体置于激光增益介质后面,所述激光增益介质为一喇叭状波导结构晶体,靠近可饱和吸收体一端为大端面。该激光器采用类波导结构的激光增益介质,将其产生的荧光尽可能多地反射到被动调Q晶体上,以降低泵浦阈值,同时提高被动调Q的激光脉冲频率和功率。
搜索关键词: 一种 被动 激光器
【主权项】:
一种被动调Q 激光器,包括泵浦源、泵浦耦合系统、激光增益介质和可饱和吸收体,泵浦源发出泵浦光经泵浦耦合系统进入激光增益介质,可饱和吸收体置于激光增益介质后面,其特征在于:所述激光增益介质为一喇叭状波导结构晶体,靠近可饱和吸收体一端为大端面;所述喇叭状波导结构晶体外侧面均粘接有散热块;所述喇叭状波导结构晶体靠近泵浦耦合系统的一面镀有对泵浦光增透同时对工作激光高反的介质膜,靠近可饱和吸收体的大端面镀有对工作激光增透的介质膜;可饱和吸收体的出射端面镀有对工作激光部分反射的介质膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州高意通讯有限公司,未经福州高意通讯有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210296175.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top