[发明专利]化学气相淀积设备以及化学气相淀积方法中清洗履带的方法无效
申请号: | 201210301805.0 | 申请日: | 2012-08-23 |
公开(公告)号: | CN103628038A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 王训辉;吴啸;过奇钧;范建超 | 申请(专利权)人: | 无锡华润华晶微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 臧霁晨;王忠忠 |
地址: | 214028 江苏省无锡市国*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 发明涉及化学气相淀积设备和化学气相淀积法中清洗履带的方法。本发明的化学气相淀积设备包括:腔体;将处理气体供给所述腔体的进气装置;将处理后的气体导出所述腔体的排气装置;移动载置被处理圆片的履带;用于对所述履带上的被处理圆片进行加热的加热块;对所述履带表面喷淋气化腐蚀液的喷淋装置;利用超声波对所述履带表面进行清洗的超声波清洗装置;以及对所述履带表面进行烘干的烘干装置。根据本发明,能够有效地清除履带上积累的SiO2,能够解决圆片表面颗粒问题,提高了圆片表面质量,而且还能够提高化学气相淀积设备的使用效率。 | ||
搜索关键词: | 化学 气相淀积 设备 以及 方法 清洗 履带 | ||
【主权项】:
一种化学气相淀积设备,包括:腔体;将处理气体供给所述腔体的进气装置;将处理后的气体导出所述腔体的排气装置;移动载置被处理圆片的履带,其特征在于,还包括:喷淋装置,对所述履带表面喷淋气化腐蚀液;超声波清洗装置,利用超声波对所述履带表面进行清洗;以及烘干装置,对所述履带表面进行烘干。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的