[发明专利]化学气相淀积设备以及化学气相淀积方法中清洗履带的方法无效

专利信息
申请号: 201210301805.0 申请日: 2012-08-23
公开(公告)号: CN103628038A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 王训辉;吴啸;过奇钧;范建超 申请(专利权)人: 无锡华润华晶微电子有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 臧霁晨;王忠忠
地址: 214028 江苏省无锡市国*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及化学气相淀积设备和化学气相淀积法中清洗履带的方法。本发明的化学气相淀积设备包括:腔体;将处理气体供给所述腔体的进气装置;将处理后的气体导出所述腔体的排气装置;移动载置被处理圆片的履带;用于对所述履带上的被处理圆片进行加热的加热块;对所述履带表面喷淋气化腐蚀液的喷淋装置;利用超声波对所述履带表面进行清洗的超声波清洗装置;以及对所述履带表面进行烘干的烘干装置。根据本发明,能够有效地清除履带上积累的SiO2,能够解决圆片表面颗粒问题,提高了圆片表面质量,而且还能够提高化学气相淀积设备的使用效率。
搜索关键词: 化学 气相淀积 设备 以及 方法 清洗 履带
【主权项】:
一种化学气相淀积设备,包括:腔体;将处理气体供给所述腔体的进气装置;将处理后的气体导出所述腔体的排气装置;移动载置被处理圆片的履带,其特征在于,还包括:喷淋装置,对所述履带表面喷淋气化腐蚀液;超声波清洗装置,利用超声波对所述履带表面进行清洗;以及烘干装置,对所述履带表面进行烘干。
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