[发明专利]高阻抗材料以及包括该材料的显示基板黑矩阵和液晶显示装置有效

申请号：	201210303121.4	申请日：	2012-08-23
公开（公告）号：	CN102827526A	公开（公告）日：	2012-12-19
发明（设计）人：	暴军萍;李兴华;贺伟;江定荣	申请（专利权）人：	京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号：	C09D135/02	分类号：	C09D135/02;C09D179/08;C09D7/12;G02F1/1335
代理公司：	北京路浩知识产权代理有限公司 11002	代理人：	张庆敏;王朋飞
地址：	100015 ***	国省代码：	北京;11
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摘要：	本发明提供了一种高阻抗材料，其由以下重量百分含量的组分组成：粘合树脂10％～30％；遮光剂20％～50％；溶剂30％～65％；粘结性改良剂0.03％～0.2％。本发明所述的高阻抗材料可用于制备黑矩阵，所述黑矩阵能起到一种隔绝的作用，将所述黑矩阵用于液晶显示装置，在开机瞬间，使得下基板两侧的电极引线区由于电场变化产生的感应电荷都集聚并束缚在上侧的边缘BM区，不会向内侧扩散和泄漏，能够彻底解决ADS产品两侧白线的情况。
搜索关键词：	阻抗材料以及包括显示基板黑矩阵液晶显示装置
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【主权项】：

一种高阻抗材料，其特征在于，其由以下重量百分含量的组分组成：10％～30％的粘合树脂，20％～50％的遮光剂，30％～65％的溶剂，以及0.03％～0.2％的粘结性改良剂。

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