[发明专利]半导体元件的制造方法有效
| 申请号： | 201210304578.7 | 申请日： | 2012-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN102956469A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 中田和成;松村民雄 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 闫小龙;李浩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种能够抑制缺口的产生而对晶片进行研磨的半导体元件的制造方法。本申请发明的半导体元件的制造方法的特征在于，具备：晶片研磨工序，利用旋转的研磨磨具，一边在已经形成的斜面和该研磨磨具之间设置有间隙的状态下沿着晶片外周部的内侧形成与该晶片的主面所成的角为75°以上且不足90°的斜面，一边在被该斜面包围的部分形成比该外周部薄的薄化部；在该薄化部形成半导体元件的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种半导体元件的制造方法，其特征在于，具备：晶片研磨工序，利用旋转的研磨磨具，一边在已经形成的斜面和所述研磨磨具之间设置有间隙的状态下沿着晶片外周部的内侧形成与所述晶片的主面所成的角为75°以上且不足90°的斜面，一边在被所述斜面包围的部分形成比所述外周部薄的薄化部；以及在所述薄化部形成半导体元件的工序。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
