[发明专利]接近曝光装置、其基板定位方法及显示用面板基板的制法

摘要

一种接近曝光装置、接近曝光装置的基板定位方法及显示用面板基板的制造方法。在搭载于第1平台且朝向Y方向(或X方向)移动的第2平台上安装第2反射装置，以对第2反射装置在θ方向上的位置偏移进行检测。在夹盘上设置多个光学式位移计，通过多个光学式位移计，在多处部位对直至安装于第2平台的第2反射装置为止的距离进行测定。基于第2反射装置在θ方向上的位置偏移的检测结果，并根据多个光学式位移计的测定结果，来检测夹盘在θ方向上的斜率，且基于检测结果，通过第3平台来使夹盘朝向θ方向旋转，以进行基板在θ方向上的定位。

主权项

一种接近曝光装置，包括支撑基板的夹盘以及保持光罩的光罩架，在所述光罩与所述基板之间设置微小的间隙而将所述光罩的图案转印至所述基板上，所述接近曝光装置的特征在于包括：移动平台，具有朝向X方向或Y方向移动的第1平台、搭载于所述第1平台上且朝向所述Y方向或所述X方向移动的第2平台、以及搭载于所述第2平台上且朝向θ方向旋转的第3平台，搭载所述夹盘以进行由所述夹盘所支撑的所述基板的定位；激光测长系统，具有产生激光光线的光源、安装于所述第1平台的第1反射装置、安装于所述第2平台的第2反射装置、对来自所述光源的所述激光光线与由所述第1反射装置所反射的所述激光光线的干涉进行测定的第1激光干涉仪、以及对来自所述光源的所述激光光线与由所述第2反射装置所反射的所述激光光线的干涉进行测定的第2激光干涉仪；第1检测装置，根据所述第1激光干涉仪以及所述第2激光干涉仪的测定结果，来检测所述移动平台在XY方向上的位置；位置偏移检测装置，对安装于所述第2平台的所述第2反射装置在所述θ方向上的位置偏移进行检测；多个光学式位移计，设于所述夹盘上，在多处部位对直至安装于所述第2平台的所述第2反射装置为止的距离进行测定；第2检测装置，基于由所述位置偏移检测装置所检测的所述第2反射装置在所述θ方向上的位置偏移，并根据所述多个光学式位移计的测定结果来检测所述夹盘在所述θ方向上的斜率；平台驱动电路，驱动所述移动平台；以及控制装置，基于所述第2检测装置的检测结果来控制所述平台驱动电路，通过所述第3平台使所述夹盘朝向所述θ方向旋转，以进行所述基板在所述θ方向上的定位，并基于所述第1检测装置的检测结果来控制所述平台驱动电路，通过所述第1平台以及所述第2平台来使所述夹盘朝向所述XY方向移动，以进行所述基板在所述XY方向上的定位。