[发明专利]激光退火提高铁磁/反铁磁双层膜交换偏置场热稳定性方法无效
| 申请号： | 201210309566.3 | 申请日： | 2012-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN102832336A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 周广宏;章跃;潘旋;朱雨富;丁红燕 | 申请（专利权）人： | 淮阴工学院 |
| 主分类号： | H01L43/12 | 分类号： | H01L43/12 |
| 代理公司： | 淮安市科翔专利商标事务所 32110 | 代理人： | 韩晓斌 |
| 地址： | 223001 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光快速退火提高铁磁/反铁磁双层膜交换偏置场热稳定性的方法，它包括以下步骤：(1)利用PVD方法在衬底上沉积铁磁层和反铁磁层，得铁磁/反铁磁双层膜；(2)利用连续波激光或脉冲激光作为光源，对双层膜进行激光快速退火，输出功率2～10W，扫描速度5～20cm/s。本发明方法可应用于基于铁磁/反铁磁双层膜的巨磁阻电阻传感器、磁性随机存取存储器、磁记录器件等，具有方法简单、效率高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 退火 提高 反铁磁 双层 交换 偏置 热稳定性 方法 | ||
【主权项】：
激光快速退火提高铁磁/反铁磁双层膜交换偏置场热稳定性方法，其特征在于该方法包括以下步骤：（1）按衬底、缓冲层、磁性层、保护层的顺序采用物理气相沉积法（PVD），制作铁磁/反铁磁双层膜；（2）利用连续波激光或脉冲激光作为光源，对铁磁/反铁磁双层膜进行激光快速退火；其中，在激光快速退火时，施加100~500Oe的平面诱导磁场；其中，激光快速退火的工艺参数为：输出功率2～10W，扫描速度5～20cm/s。
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