[发明专利]正型光敏树脂组合物、使用其制备的光敏树脂膜、以及包含该光敏树脂膜的半导体器件

摘要

本发明披露了正型光敏树脂组合物、使用其制备的光敏树脂膜、以及包含该光敏树脂膜的半导体器件。本发明的正型光敏树脂组合物，包括（A）由下列化学式1表示的含磷二胺制备的碱溶性树脂，（B）光敏重氮醌化合物，和（C）溶剂。在化学式1中，每一个取代基都与具体实施方式中定义的相同。该正型光敏树脂组合物具有改善的光敏性、在曝光部分高的残余物去除率、以及极好的耐蚀刻性和耐热性，并且可以用于半导体电路的保护层或有机发光二极管（OLED）显示器的像素晶体层。[化学式1]

主权项

1.一种正型光敏树脂组合物，包括（A）由下列化学式1表示的含磷二胺制备的碱溶性树脂；（B）光敏重氮醌化合物；和（C）溶剂：[化学式1]其中，在化学式1中，R'和R″每一个独立地是氢、取代的或未取代的C1至C20的烷基、取代的或未取代的C2至C20的烯基、取代的或未取代的C2至C20的炔基、取代的或未取代的C1至C20的烷氧基、取代的或未取代的C3至C20的环烷基、取代的或未取代的C3至C20的环烯基、取代的或未取代的C3至C20的环炔基、取代的或未取代的C2至C20的杂环烷基、取代的或未取代的C2至C20的杂环烯基、取代的或未取代的C2至C20的杂环炔基、或取代的或未取代的C6至C30的芳基，R是取代的或未取代的C1至C20的烷基、取代的或未取代的C2至C20的烯基、取代的或未取代的C2至C20的炔基、取代的或未取代的C1至C20的烷氧基、取代的或未取代的C3至C20的环烷基、取代的或未取代的C3至C20的环烯基、取代的或未取代的C3至C20的环炔基、取代的或未取代的C2至C20的杂环烷基、取代的或未取代的C2至C20的杂环烯基、取代的或未取代的C2至C20的杂环炔基、或取代的或未取代的C6至C30的芳基，以及n'和n″是从0到3的整数。