[发明专利]一种投影物镜光学系统有效
| 申请号： | 201210319547.9 | 申请日： | 2012-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN103676096A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 郭银章;孙晶露 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/18 | 分类号： | G02B13/18;G02B13/22;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种投影物镜光学系统，将掩模图形从物平面经过光学系统传送到像平面，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面一侧顺次包括：第一透镜、第二透镜、第三透镜、孔径光阑、第四透镜、第五透镜、第六透镜；所述第一透镜、第二透镜、第三透镜分别与第六透镜、第五透镜、第四透镜关于孔径光阑完全对称。其中，第一透镜具有正光焦度，第二透镜具有负光焦度，第三透镜具有正光焦度；第二透镜与第三透镜构成第一透镜组；第一透镜、第二透镜与第三透镜之间的光焦度分配满足以下条件：G111∶G113=-0.73～-0.79，第一透镜与第一透镜组光焦度比值为：G111/G123=3.72～3.91；其中，G111、G113分别为第一、第三透镜的光焦度；G123为第一透镜组的光焦度；第四透镜、第五透镜与第六透镜的光焦度分配也满足上述条件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 物镜 光学系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻领域的投影物镜光学系统，将掩模图形从物平面经过光学系统传送到像平面，其特征在于，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面一侧顺次包括：第一透镜、第二透镜、第三透镜、孔径光阑、第四透镜、第五透镜、第六透镜；所述第一透镜、第二透镜、第三透镜分别与第六透镜、第五透镜、第四透镜关于孔径光阑完全对称；其中，第一透镜具有正光焦度，第二透镜具有负光焦度，第三透镜具有正光焦度；第二透镜与第三透镜构成第一透镜组；第一透镜、第二透镜与第三透镜之间的光焦度分配满足以下条件：G111∶G113= ‑0.73～‑0.79，第一透镜与第一透镜组光焦度比值为：G111 /G123=3.72～3.91；其中，G111、G113分别为第一、第三透镜的光焦度；G123为第一透镜组的光焦度；第四透镜、第五透镜与第六透镜的光焦度分配也满足上述条件。
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