[发明专利]利用惰性气体喷射研磨硼粉末以满足纯度要求无效
| 申请号： | 201210319614.7 | 申请日： | 2012-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN102847596A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | J·M·卢斯蒂格;J·L·约翰宁 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B02C19/06 | 分类号： | B02C19/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 朱铁宏;杨楷 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及利用惰性气体喷射研磨硼粉末以满足纯度要求。提供了用于避免杂质污染的研磨硼(44，72)的加工系统(40)和相关方法。该系统包括用于减小硼原料(44)的颗粒大小的喷射研磨机(42)和用于朝向喷射研磨机(42)传送硼原料(44)的原料入口(54)。该系统包括至少一个入口(例如，46，60)，其用于将至少一种气体(例如，48，62)传送到喷射研磨机(42)中。气体和硼原料(44)在研磨减小硼颗粒大小期间在喷射研磨机(42)内混合。该系统包括至少一种气体的源，其操作地连接至至少一个入口(例如，46，60)，其中，该至少一种气体(例如，48，62)是避免在研磨减小硼颗粒大小期间转移杂质的气体。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 惰性气体 喷射 研磨 粉末 满足 纯度 要求 | ||
【主权项】：
一种用于在避免杂质污染的情况下研磨硼(44，72)的加工系统(40)，所述加工系统(40)包括：喷射研磨机(42)，其用于减小硼原料(44)的颗粒大小；原料入口(54)，其用于朝向所述喷射研磨机(42)传送所述硼原料(44)；至少一个入口(例如，46，60)，其用于将至少一种气体(例如，48，62)传送到所述喷射研磨机(42)中，所述气体和所述硼原料(44)在研磨减小硼颗粒大小期间在所述喷射研磨机(42)内混合；和所述至少一种气体的源，其操作地连接至所述至少一个入口(例如，46，60)，其中，所述至少一种气体(例如，48，62)是避免在研磨减小硼颗粒大小期间转移杂质的气体。
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