[发明专利]多晶硅还原生产装置及方法有效
申请号: | 201210320361.5 | 申请日: | 2012-09-03 |
公开(公告)号: | CN102786056A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 齐林喜;王晓亮 | 申请(专利权)人: | 内蒙古盾安光伏科技有限公司 |
主分类号: | C01B33/035 | 分类号: | C01B33/035 |
代理公司: | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙) 11391 | 代理人: | 张群峰;范晓斌 |
地址: | 015543 内蒙古自*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 多晶硅还原生产装置及方法。一种多晶硅还原生产方法,包括:将第一路高纯三氯氢硅气体与高纯氢气混合均匀后送入第一还原炉发生还原反应,排出包括三氯氢硅、氢气、四氯化硅以及氯化氢的一级尾气,通过冷凝分离出一级尾气中的四氯化硅,剩余一级尾气作为多晶硅生产的还原气体原料。本发明能够减少在多晶硅生产中的能耗,降低生产成本;同时还有利于提高多晶硅产品的质量。 | ||
搜索关键词: | 多晶 还原 生产 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种多晶硅还原生产方法,包括:将第一路高纯三氯氢硅气体与高纯氢气混合均匀后送入第一还原炉发生还原反应,排出包括三氯氢硅、氢气、四氯化硅以及氯化氢的一级尾气,通过冷凝分离出一级尾气中的四氯化硅,剩余一级尾气作为多晶硅生产的还原气体原料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于内蒙古盾安光伏科技有限公司,未经内蒙古盾安光伏科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210320361.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:可接渗水的香皂盒
- 下一篇:太阳能供电感光控制窗帘