[发明专利]一种多晶铸锭炉及用其生长类单晶硅锭的方法有效
申请号: | 201210322035.8 | 申请日: | 2012-09-04 |
公开(公告)号: | CN102877125A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 郭大伟;黎志欣;王军;王楠 | 申请(专利权)人: | 北京京运通科技股份有限公司 |
主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06;C30B11/00 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 史霞 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种用多晶铸锭炉生长类单晶硅锭的方法,包括:将单晶铺设于坩埚底部,并在上面添加硅料及根据目标电阻率相配合的合金,将装有以上硅料的坩埚装入多晶铸锭炉内;将所述多晶铸锭炉抽真空,加热并监测炉内的温度,当加热到规定温度时,充入氩气;当传感器探测到籽晶熔化到规定深度时,按预置温度降温至长晶温度;按照预先设定的温度及隔热笼的开启程度来控制长晶速度,直至类单晶硅锭长成;保持一定温度一定时间后进行降温,冷却结束后,硅锭出炉。上述方法利用现有的多晶铸锭炉实现了类单晶硅锭生产,提高了生产效率,降低了生产成本,提高了硅锭和硅片的平均质量。本发明还提供了一种生产类单晶硅锭的多晶铸锭炉。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 铸锭 生长 单晶硅 方法 | ||
【主权项】:
一种用多晶铸锭炉生长类单晶硅锭的方法,其特征在于,包括:1)将单晶籽晶紧密并均匀地铺设于坩埚底部,且所述单晶籽晶在水平方向的晶向一致,并在上面添加足量硅料及根据目标电阻率相配合的合金,将装有以上硅料的坩埚装入多晶铸锭炉内;2)将所述多晶铸锭炉抽真空,开始加热并监测炉内的温度,当加热到规定温度1175‑1550℃之间时,向所述多晶铸锭炉充入氩气;3)当传感器探测到籽晶熔化到规定深度时,按预置温度降温至长晶温度1420‑1480℃之间;4)按照预先设定的温度及隔热笼的开启程度来控制长晶速度,同时打开所述容器四周的绝热体,并通过所述容器四周的水冷系统对所述容器进行冷却,形成垂直于容器底部的温度梯度,直至类单晶硅锭长成;5)降温至400℃以内,冷却结束后,硅锭出炉。
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